OLED制造：在线控制有机物膜层、ITO膜层厚度

在高效率的有机发光二极管（OLED）制程中，需对不同材料的膜厚进行精确控制。必须实时测量及时反馈实际膜厚给控制端，从而使OLED制造在高速生产的同时能确保膜厚正确。与其他应用不同，OLED的生产，没有B级品的规格作缓冲空间，所以对膜层的精确控制是一切之基础。为保证参数稳定，必须使用特殊测量设备抵御干扰的影响——譬如测试样本的倾斜或位置高度相对于标准测量基准的变化等。

合理的光学设计是实现光谱反射率和透光率精确测量的基础，进而可以快速地确定膜层厚度。

OLED在线测量解决方案

NXT Xelas系列测量系统可测量膜层厚度和各种膜层或膜系的折射率，系统充分已考虑到表面粗糙度的影响。其RT光学头专为高精度稳定在线测量进行设计和优化，用以确保在生产条件下保证测试结果绝对准确。

产品亮点

•     可测量任何OLED膜层

•     膜厚测量范围5nm-500nm

•     材料光谱特性n(λ)/k(λ)，包括常见材料的数据库。

契合真实生产环境

- 为获得最好的测量稳定性，R测量头和T测量头均针对生产过程中被测产品的倾斜和起伏问题进行了特殊的容差设计。

- 从玻璃窗口之外进行测量：不会对对生产线的维护调整造成影响。

- 内置自动校准程序

- 非接触式无损测量

生产-安全检查设定

- 自动触发生产线的I/O通讯

- 实时监测膜层厚度，对生产生产工艺没有干扰。

- 高速测量

在线厚度和n/k控制用的3通道RT配置

用于多通道在线控制的光纤多路系统

适用Xelas INLINE-oled测量系统的工艺步骤：

测量原理

薄膜上下表面的反射光因相位不同而产生干涉现象，其干涉的频率与膜层的厚度是成比例的。这种物理现象被用来计算薄膜的厚度。通过将测得的反射光谱与理论光谱进行精确拟合，就可以获得膜层的准确厚度。

某一膜系的反射率R和透光率T

光谱仪记录样本的光谱后，会自动进行数学运算，通过分别变更膜层厚度和光学常数（n/k），使理论模型和实测结果实现完美匹配。

对涂覆于玻璃基片上的有机膜层进行反射率和透光率的光谱拟合。(实测=蓝色线，数学模拟=红色线)

除了采用适于任何材料的特殊震荡模型（独有专利算法）之外，我们还需要精确而稳定的光谱数据。为此，Xelas测量系统的测量头包含特殊设计，以确保使反射率和透光率的精确性达到最好状态，当然，这要感谢我们在其他领域内多年测量的经验积累。

反射率测量稳定性：被测产品在产线上的高度变化

Xelas测量系统的配置非常灵活，可搭配1-9个测量通道，可以满足任何当前的、未来的在线测量控制需求。多路复用设计使在线安装具备可升级性，精选的高质量部件足以确保高速而可信赖的R+T光谱输出。

在线测量膜厚和n/k的关键性：

- 稳定生产工艺

- 确保OLED膜层均匀性

- 出现问题时快速反馈

- 可帮助最先进的生产线进行良率优化

Xelas INLINE-oled可帮助OLED生产实现：

- 保持生产状态稳定，提高开机率和制程良率

- 加强对产线膜厚漂移和材料特性变化趋势的深入了解。

- 对产品进行100%管控并自动记录所有输出数据

兼容OLED照明和OLED显示！

光谱传感器 R+T，用于在线式反射+投射测量

R+T光谱仪和紫外氙灯光源机箱