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晶硅太阳能应用

 


Helios系列测量系统


在太阳能电池片的制程中,有一些特别重要的步骤,譬如,硅晶片的绒化(Texturing),对裸片表面进行绒化处理的目的在于降低晶片的反射率;而掺杂(Dopping)则是在电池片表面生成PN结;还有镀膜(AR-Coating),目的和钝化(Passivation)一样——降低反射率。太阳能电池片的制造工艺是如此的重视光的反射,所以NXT为晶硅太阳能行业专门设计了Helios系列测量系统,帮助太阳能厂商优化制程工艺,稳定产品质量,以最大限度的提高电池片性能和转换效率。


测量原理


在Helios产品家族中,XiTo和SiCAM产品线应用了NXT久负盛名的光谱仪和激光相机技术。这些技术从20年前开始,就已经密集应用于其他行业。通过对光谱的精确测量数据和相机图像的处理,对特定工艺制程的优化提供基础数据。NXT的数据处理过程是复杂的数学算法和物理模型的完美结合,通过计算获得特定的工艺参数,譬如膜厚、折射率、绝对反射率和其他对精度和稳定性要求甚高的参数。


Helios 晶硅太阳能解决方案


tn产品线:

●Helios Inline-tn:在线测量氮化硅(SiN)减反射膜厚和折射率

●Helios Scan-tn:高端离线测量氮化硅(SiN)减反射膜厚和折射

●Helios Lab-tn:低成本离线测量氮化硅(SiN)减反射膜厚和折射率


rc产品线:

●Helios Lab-rc:快速离线手动测量电池片整体反射率


tex产品线:

●Helios-tex:单晶电池片离线绒化控制工具


XiTo产品线:

●ETA-XiTo:在线掺杂(Doping)控制工具,实时测量磷酸层厚度




畅销产品



新推出的Helios LAB-rc全集成版本

已将所有硬件集成在一个紧凑的外壳中。硅片可在测量平台上左右移动,而整个工作台可以前后移动。

这样,就可以快速的测量6英寸硅片上的任意一点。



ETA-SiCAM测量系统装置示意图:精确测量单晶炉内液口距



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