ETA-SiCAM 半导体应用
NXT公司拥有新颖、独特、专利的应用设备去准确测试单晶炉里热硅熔体和隔热层下边缘之间的间隔距离。
ETA-SiCAM:是测试晶硅炉里隔热罩和硅熔体之间的在线间距控制系统
为什么测试间隙距离？
单晶太阳能电池或电子半导体器件生产高质量硅晶圆是临界热力学的复杂过程。
利用生长钢锭周围的隔热罩来稳定单晶炉是一种常用的技术，
特别是在液态硅熔体向固态钢锭过渡的区域，需要非常稳定的条件才能保证最高质量的晶体和成品。
隔热罩与热硅熔体之间的间隙距离对液态硅到固态硅过渡区是有较大的影响。
如果钢锭生长过程中的间隙距离发生变化，需要重新调整。
因此，这就是为什么需要测试和控制这个距离的准确性和可靠性 。
ETA-SiCAM单晶炉间隙测量的亮点:
